619A 半自动 LED 晶圆粗抛机(膜制程)
卖点
  • 适用胶膜式制程
  • 创新、环保、节能、效率
专利

已获得台湾与大陆两岸 12 项专利

机台优势
  • 无需溶剂清洗
  • 无需上下蜡制程
  • 降低成本,提高良率
作业方式

将贴附在铁环 + 胶膜上的晶圆,由操作员放置到粗抛机工作台上,即可手动进行参数设定 ( 设定好工作压力、粗抛时间… ) 并进行粗抛,直至时间到达即停止作业,再由操作员手动取片,即完成粗抛作业。

设备规格
设备尺寸 1350 mm × 2235 mm × 2555 mm ( W×D×H )
设备重量 3250 kg
电源AC 3 Ø 220 V
空气源 5 Kgf ∕ cm2 ( 12 Ø Tube )
设备应用范围
晶圆尺寸 2寸~ 6寸
晶粒尺寸
雷切深度
铁环尺寸 10寸 Flat Ring ( 内径 Ø 300 mm;外径 360 mm;t=1.0 ~ 1.3 mm )
机台特性
冷却系统

无需上下蜡

一键自动修盘

*网站信息仅供参考,实际设备规格依双方交易中规格书载明内容为主。

更多《晶圆减薄/抛光机》型号

518A
半自动 LED 晶圆減薄机(蜡制程)

Semi Auto LED Wafer Grinding Machine (Wax)

519A
半自动 LED 晶圆減薄机(膜制程)

Semi Auto LED Wafer Grinding Machine (Tape)

619A
半自动 LED 晶圆粗抛机(膜制程)

Semi Auto LED Wafer Lapping Machine (Tape)

629A
半自动 LED 晶圆精抛机(膜制程)

Semi Auto LED Wafer Polishing Machine (Tape)